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合成法鑭鈰拋光液
合成法鑭鈰拋光液的關(guān)鍵技術(shù)：公司采用合成濕法磨工藝制成高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉，通過將高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉液體化，按照相應(yīng)的比例和參數(shù)，物理合成適量的稀土元素，通過中和、壓縮、過濾、分級等工藝，使產(chǎn)品滿足不同拋光產(chǎn)品和材質(zhì)的要求。
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合成法鑭鈰拋光液的關(guān)鍵技術(shù)：公司采用合成濕法磨工藝制成高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉，通過將高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉液體化，按照相應(yīng)的比例和參數(shù)，物理合成適量的稀土元素，通過中和、壓縮、過濾、分級等工藝，使產(chǎn)品滿足不同拋光產(chǎn)品和材質(zhì)的要求。其產(chǎn)品性能：根據(jù)不同磨料和拋光產(chǎn)品，采用專用加工和配方，使產(chǎn)品表面的光潔度和光滑度達到技術(shù)要求，避免了拋光過程中的劃傷和缺陷。
產(chǎn)品特點：穩(wěn)定性高、分散性好、拋光速度快、磨削力強、五拋光缺陷、可循環(huán)使用。
應(yīng)用領(lǐng)域：該系列中端產(chǎn)品主要應(yīng)用于精密光學(xué)玻璃鏡片、黑色金屬和有色金屬、塑料和聚合物部件、紅外材料和激光晶體、生物醫(yī)學(xué)植入物和設(shè)備、金屬樣品制備、光纖和組件、航空和航空零部件、藍寶石光學(xué)基板、標準玻璃、視頻玻璃的拋光研磨。
該系列產(chǎn)品主要用于集成電路、半導(dǎo)體硅片、電子芯片等產(chǎn)品的拋光。
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