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高鈰拋光液
高鈰拋光液的關鍵技術：公司采用合成濕法磨工藝制成高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉，通過將高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉液體化，按照相應的比例和參數，物理合成適量的稀土元素，通過合成、過濾、分級等工藝，使產品滿足不同拋光產品和材質的要求。應用領域：該系列產品主要用于集成電路、半導體硅片、電子芯片等產品的拋光。
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高鈰拋光液的關鍵技術：公司采用合成濕法磨工藝制成高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉，通過將高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉液體化，按照相應的比例和參數，物理合成適量的稀土元素，通過合成、過濾、分級等工藝，使產品滿足不同拋光產品和材質的要求。其產品性能：根據不同磨料和拋光產品，采用專用加工和配方，使產品表面的光潔度和光滑度達到技術要求，避免了拋光過程中的劃傷和缺陷。
產品特點：穩定性高、分散性好、拋光速度快、磨削力強、無拋光缺陷、可循環使用。
應用領域：該系列中端產品主要應用于精密光學玻璃鏡片、紅外材料和激光晶體、生物醫學植入物和設備、金屬樣品制備、光纖和組件、航空和航空零部件、藍寶石光學基板、標準玻璃、視頻玻璃的拋光研磨。
該系列產品主要用于集成電路、半導體硅片、電子芯片等產品的拋光。
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